纳米粉体生产之化学气相沉积CVD法介绍

来源：广州宏武材料科技有限公司纳米粒子生产商发布时间：2018-05-29浏览量：次

CVD技术是化学气相沉积Chemical Vapor Deposition的缩写。

化学气相沉积乃是通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。简单来说就是：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到基片表面上。

从气相中析出的固体的形态主要有下列几种：在固体表面上生成薄膜、晶须和晶粒，在气体中生成粒子。

CVD法可制备薄膜、粉末、纤维等材料，用于很多领域，如半导体工业、电子器件、光子及光电子工业等。

CVD反应体系必须具备的条件：
1、在沉积温度下，反应物具有足够高的蒸气压，并能以适当的速度被引入反应室；
2、反应产物除了形成固态薄膜物质外，都必须是挥发性的；

3、沉积薄膜和基体材料必须具有足够低的蒸气压，以保证在反应中能保持在受热的基体上，不会挥发。

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